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日本進(jìn)口techvision全自動(dòng)光掩膜清洗裝置 TWC-200A全自動(dòng)光掩膜清洗裝置《TWC-200A》是一下子去除附著在掩模上的1μm以上的顆粒和抗蝕劑殘?jiān)膖o盒的全自動(dòng)光掩膜清洗裝置。
產(chǎn)品型號(hào)：TWC-200A廠(chǎng)商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商更新時(shí)間：2024-10-11訪(fǎng) 問(wèn) 量：262
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日本進(jìn)口techvision全自動(dòng)光掩膜清洗裝置 TWC-200A 特點(diǎn)介紹
全自動(dòng)光掩膜清洗裝置《TWC-200A》是一下子去除附著在掩模上的1μm以上的顆粒和抗蝕劑殘?jiān)膖o盒的全自動(dòng)光掩膜清洗裝置。
干燥采用熱純水干燥，而不是傳統(tǒng)的氣刀干燥，并采用免調(diào)節(jié)設(shè)計(jì)，省去了水飛濺調(diào)節(jié)的麻煩。 熱純水干燥
對(duì)應(yīng)的面罩尺寸，最多7英寸。專(zhuān)用盒最多可裝20張。
日本進(jìn)口techvision全自動(dòng)光掩膜清洗裝置 TWC-200A 規(guī)格參數(shù)
?輕松去除附著在掩模上的抗蝕劑
?輕松移除蒙版上的粒子
?清洗液開(kāi)發(fā)對(duì)環(huán)境友好的溫和的水溶性藥液
?從熱硫酸和硫酸過(guò)水等危險(xiǎn)中解脫出來(lái)
?不需要昂貴的去除劑和顯影液
用途：平板顯示器，MEMS器件，精細(xì)圖案PCB/FPC/TAB，化合物半導(dǎo)體，薄膜電子元件等。
TWC系列可同時(shí)去除附著在掩模上的抗蝕劑和顆粒。使用專(zhuān)用藥液去除抗蝕劑和TW系列培養(yǎng)的顆粒去除技術(shù)，有助于提高口罩的清潔度。
全自動(dòng)光掩膜清洗裝置《TWC-200A》是一下子去除附著在掩模上的1μm以上的顆粒和抗蝕劑殘?jiān)膖o盒的全自動(dòng)光掩膜清洗裝置。
干燥采用熱純水干燥，而不是傳統(tǒng)的氣刀干燥，并采用免調(diào)節(jié)設(shè)計(jì)，省去了水飛濺調(diào)節(jié)的麻煩。 熱純水干燥
對(duì)應(yīng)的面罩尺寸，最多7英寸。專(zhuān)用盒最多可裝20張。
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