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您的位置:首頁  /  產(chǎn)品展示  /  常用儀表  /  霧化裝置  /  LM-1000/PM-H1000/PM-L1000日本RIX新型式濕式霧化裝置G-smasher進(jìn)口

日本RIX新型式濕式霧化裝置G-smasher進(jìn)口

日本RIX新型式濕式霧化裝置G-smasher進(jìn)口 LM-1000/PM-H1000/PM-L1000

由于不使用任何介質(zhì),也沒有高壓密封件(消耗品和磨料),因此污染極少。

  • 產(chǎn)品型號:LM-1000/PM-H1000/PM-L1000
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間:2024-10-07
  • 訪  問  量:334
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詳細(xì)介紹

日本RIX新型式濕式霧化裝置G-smasher進(jìn)口 LM-1000/PM-H1000/PM-L1000 特征介紹


由于不使用任何介質(zhì),也沒有高壓密封件(消耗品和磨料),因此污染極少。

由于強(qiáng)大的沖擊波在短時(shí)間內(nèi)施加到液滴上,因此對顆粒的損傷很小。

液滴化的漿料以超音速與碰撞板碰撞,從而可以將顆粒研磨至比空氣噴射磨更細(xì)的粒徑。

漿料流路很寬,因此即使是大顆粒也可以注射而不會堵塞。


日本RIX新型式濕式霧化裝置G-smasher進(jìn)口 LM-1000/PM-H1000/PM-L1000 規(guī)格參數(shù)


材料G粉碎機(jī)的特點(diǎn)傳統(tǒng)技術(shù)的問題

金屬

(鎳、銀、銅、鐵、鈷等)通過無損傷和

無堵塞冷卻

抑制氧化變形

、發(fā)熱

引起的氧化

復(fù)合顆粒無損傷顆粒開裂和

涂層剝落

磁粉無損傷由于損壞而導(dǎo)致磁力降低

氧化鈦/二氧化硅無污染污染/設(shè)備磨損



吞吐量3~10.8L/h

(流量根據(jù)漿料運(yùn)動粘度、比重、分散狀態(tài)而變化)

設(shè)備外形尺寸650(寬) ? 650(后) ? 965(高)毫米

設(shè)備重量約100公斤

氣壓/所需流量0.6MPa?0.5?/min

(使用壓縮機(jī)潔凈空氣)


吞吐量

4.8~30L/h

(流量根據(jù)漿料的運(yùn)動粘度、比重、分散狀態(tài)而變化。)

設(shè)備外形尺寸

1200(寬) ×850(后)×2050(高)mm

設(shè)備重量

約400公斤

氣壓/所需流量

0.6MPa?1.5?/分鐘

(使用壓縮機(jī)潔凈空氣)




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